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荏原製作所 化学機械研磨装置2000台出荷 半導体チップ微細·多層化 ナノ単位の平坦性実現

机译:交付了Ebara Corporation 2000化学机械抛光设备,半导体芯片精细且多层,实现了纳米单位的平整度。

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摘要

荏原製作所の精密·電子事業カンパニーは5月に化学機械研磨(CMP)装置の出荷累計2千台を達成した。CMP装置は、半導体チップの製造過程においてナノメートルの単位で求められる平坦性を化学的機械的に研磨する装置。同社は世界初のドライイン/ドライアウト方式(※)を開発、93年から出荷している。半導体チップは電子機器の頭脳として、スマホやタブレット端末をはじめパソコン、家電製品、自動車などあらゆるものに搭載されている。
机译:EBARA精密机械公司在5月累计实现了2000台化学机械抛光(CMP)设备的发货。 CMP设备是在半导体芯片的制造过程中化学和机械抛光以纳米为单位所需的平坦度的设备。该公司开发了世界上第一种干入/干出方法(*),并从1993年开始发货。从智能手机和平板电脑终端到个人计算机,家用电器和汽车,半导体芯片被用作电子设备的大脑。

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  • 来源
    《电波新闻》 |2016年第16931期|4-4|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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  • 入库时间 2022-08-17 23:53:00

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