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産総研両面干渉計を開発測定結果国家標準にトレーサブル

机译:开发出可溯源至国家标准的AIST双面干涉仪

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摘要

産業技術総合研究所(産総研)は、長さの国家標準にトレーサブルに、試料の厚さを測定できる厚さ測定用両面干渉計を開発し、シリコンウェハーの厚さ測定に応用した。半導体製造では、業界団体がシリコンウェハーの寸法の規格を定めており、厚さは重要な項目の一つ。測定結果の信頼性が一層重要になっており、シリコンウエハーの厚さ測定でも国家標準へのトレーサビリティへの要求が高まっている。また、集積度向上のための3次元積層用のシリコンウエハーではこれまで以上の薄さが求められ、厚さ管理は一層重要となっている。
机译:美国国家先进工业科学技术研究院(AIST)已开发出一种双面干涉仪,用于测量样品的厚度,该厚度可追溯至国家标准长度,并将其应用于硅晶片的厚度测量。在半导体制造中,工业团体已经建立了硅晶片尺寸的标准,厚度是重要的项目之一。测量结果的可靠性变得越来越重要,并且即使在硅晶片的厚度测量中,对溯源到国家标准的需求也在增加。另外,用于三维堆叠以提高集成度的硅晶片需要比以往更薄,并且厚度控制变得越来越重要。

著录项

  • 来源
    《电波新闻》 |2018年第17495期|11-11|共1页
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  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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  • 入库时间 2022-08-17 23:46:55

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