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Impact of electron irradiation on particle track etching response in polyallyl diglycol carbonate (PADC)

机译:电子辐照对聚烯丙基碳酸二甘醇酯(PADC)中颗粒径迹蚀刻响应的影响

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摘要

In the present work, attempts have been made to investigate the modification in particle track etching response of polyallyl diglycol carbonate (PADC) due to impact of 2 MeV electrons. PADC samples pre-irradiated to 1, 10, 20, 40, 60, 80, and 100 Mrad doses of 2 MeV electrons were Further exposed to 140 MeV ~28Si beam and dose-dependent track registration properties of PADC Have been studied.
机译:在当前的工作中,已尝试研究由于2 MeV电子的撞击而引起的聚烯丙基碳酸二甘醇酯(PADC)的颗粒轨迹蚀刻响应的变化。将预辐照了1、2、3、10、20、40、60、80和100兆拉德剂量的2个MeV电子的PADC样品进一步暴露于140 MeV〜28Si束中,并研究了PADC的剂量依赖性轨道配准特性。

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