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光照射によるめつき薄膜の密着性向上法とパターニング法

机译:通过光照射提高镀覆薄膜的附着力的图案化方法

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摘要

(独)産業技術総合研究所は,無電解めつきによりプラスチック基材上に形成した金属薄膜に高強度パルス光を瞬間的に照射すると,基材にダメージを与えずに,めっき膜の密着性を向上できることを見いだした.また,この技術によってめつき膜のパターニングも可能である.無電解めつきでは,基材にあらかじめプラズマ処理や化学的なエツチング処理などの処理を行わないと,十分な密着性を得ることが難しい.今回開発した技術は,基材の表面処理を行わずに,成膜しためっき膜に高強度のパルス光をごく短時間(数百マイクロ秒)照射して,めっき膜を瞬間的に高温にする.これによって,めっき膜とプラスチック基材の界面だけが瞬間的に加熱され,密着性が向上する.
机译:国立先进工业科学技术研究所已经开发出了一种通过化学镀在塑料基板上形成的金属薄膜,当瞬间用高强度脉冲光照射时,镀膜的粘附性不会损坏基板。我们还发现该技术可以用于对镀膜进行构图,在化学镀中,预先在基板上进行等离子体处理或化学蚀刻处理就足够了。很难获得附着力,这次开发的技术不对基材进行表面处理,而是在很短的时间内(数百微秒)用高强度的脉冲光照射沉积的镀膜。暂时升高膜的温度,仅加热镀膜和塑料基板之间的界面,从而提高附着力。

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    《プラスチックスエ—ジ》 |2013年第8期|37-37|共1页
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