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机译:掺硅辉光放电聚合物的等离子体化学气相沉积过程中C_4H_8–H_2–TMS等离子体的径向分布
China Acad Engn Phys Laser Fus Res Ctr Mianyang 621900 Sichuan Peoples R China;
Southwest Univ Sci & Technol Sichuan Coinnovat Ctr New Energet Mat Mianyang Sichuan Peoples R China;
chemistry structure; mass spectrometry; plasma-enhanced chemical vapor deposition; radial distribution; Si-GDP;
机译:Si掺杂辉光放电聚合物等离子体增强化学气相沉积C4H8-H-2-TM等离子体的径向分布
机译:使用正常的辉光放电等离子体增强化学气相沉积了解大气压下碳纳米壁的生长
机译:在CO / H_2微波放电系统中通过等离子体增强化学气相沉积法合成碳纳米墙
机译:具有一个大气均匀辉光放电等离子体(OAUGDP〜®)的表面能增强,等离子体化学气相沉积(PCVD)和等离子体蚀刻
机译:通过等离子增强化学气相沉积在聚合物基材上沉积无机薄膜。
机译:勘误:通过等离子增强化学气相沉积进行的功能化可有效过滤油性气溶胶。聚合物2019111490
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:用于等离子体增强化学气相沉积的自洽射频放电,等离子体化学和表面模型