机译:在不同磁控管配置和功率传输模式下生长的脉冲磁控溅射TiO2涂层的性能
Surface Engineering Group Dalton Research Institute John Dalton Building Manchester Metropolitan University Chester Street Manchester M1 5GD UK;
Surface Engineering Group Dalton Research Institute John Dalton Building Manchester Metropolitan University Chester Street Manchester M1 5GD UK;
pulsed magnetron sputtering; large area coatings; titania; properties; structure; FFE;
机译:混合高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和不平衡磁控溅射工艺沉积的TiAlCN / VCN纳米多层涂层的性能-涂层期间HiPIMS的影响
机译:通过大功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射生长的含铜的类金刚石碳膜的光学性质:结构和组成效应
机译:无弧深振荡磁控溅射与脉冲直流磁控溅射相结合沉积的CrN / TiN超晶格涂层的力学和摩擦学性能
机译:高功率脉冲磁控溅射蚀刻不平衡磁控溅射沉积(HIPIMS / UBM)工艺沉积的工业化生产耐腐蚀CrN / NbN涂层
机译:调制脉冲功率磁控溅射沉积氮化钛和氮化铝钛涂层的摩擦学和结构性能
机译:SiNx扩散阻挡层厚度对溶胶-凝胶浸涂和反应磁控溅射获得的TiO2薄膜的结构性能和光催化活性的影响
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长