机译:低石英SiO_2对外部静电场的响应:密度泛函理论研究
Institut Pluridisciplinaire de Recherche sur l'Environnement et les Materiaux, UMR CNRS 5254, Universite de Pan et des Pays de l’Adour, Helioparc Pau-Pyrenees, 2 Avenue du president Pierre Angot, 64053 Pau Cedex 9, France;
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theories and models of many-electron systems; semiconductor compounds; piezoelectricity and electromechanical effects; dielectric, piezoelectric, ferroelectric, and antiferroelectric materials;
机译:外部电场作用下Ni(111)表面甲基解离的密度泛函理论研究
机译:AgCl和AgBr在外部静电场下的响应特性:密度泛函研究
机译:肖克利表面状态对外部电场的响应:Cu(111)的密度泛函理论研究
机译:研究氮气和铪掺入到SiO_2 / Si(100)界面与副本交换分子动力学和密度函数理论计算中的影响
机译:静电场存在下原子和离子的多光子过程理论。
机译:预测聚合物材料静电介电常数的可行性:密度函数理论方法
机译:肖克利表面状态对外部电场的响应:Cu(111)的密度泛函理论研究