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机译:在薄硅晶体中快速快速充电的U离子的高能量损失率的测量
Universite de Lyon, F-69003 Lyon Universite Lyon 1 et IN2P3/CNRS, UMR 5822, IPNL, F-69622 Villeurbanne, France;
Gesellschaft fur Schwerionen Forschung (GSI), D-64291 Darmstadt, Germany;
Gesellschaft fur Schwerionen Forschung (GSI), D-64291 Darmstadt, Germany;
Universite de Lyon, F-69003 Lyon Universite Lyon 1 et IN2P3/CNRS, UMR 5822, IPNL, F-69622 Villeurbanne, France;
Institut des Nano-Sciences de Paris, CNRS-UMR75-88, Universite Paris VI, F-75251 Paris Cedex 05, France;
Universite de Lyon, F-69003 Lyon Universite Lyon 1 et IN2P3/CNRS, UMR 5822, IPNL, F-69622 Villeurbanne, France;
Institut des Nano-Sciences de Paris, CNRS-UMR75-88, Universite Paris VI, F-75251 Paris Cedex 05, France;
Gesellschaft fur Schwerionen Forschung (GSI), D-64291 Darmstadt, Germany;
Gesellschaft fur Schwerionen Forschung (GSI), D-64291 Darmstadt, Germany;
Max-Planck-lnstitutfur Kernphysik, 69117 Heidelberg, Germany;
Universite de Lyon, F-69003 Lyon Universite Lyon 1 et IN2P3/CNRS, UMR 5822, IPNL, F-69622 Villeurbanne, France;
Gesellschaft fur Schwerionen Forschung (GSI), D-64291 Darmstadt, Germany;
Universite de Lyon, F-69003 Lyon Universite Lyon 1 et IN2P3/CNRS, UMR 5822, IPNL, F-69622 Villeurbanne, France;
Centre Interdisciplinaire de Recherche Ions-Lasers, UMR 11 CEA-CNRS, F.14040 Caen Cedex, France;
channeling phenomena (blocking; energy loss; etc.); charge transfer;
机译:弯曲硅晶体中7 TeV质子的能量损失分布
机译:在弯曲的硅晶体中引导的7个TeV质子的能量损失分布
机译:根据跟踪探测器中的能量沉积测量值,优化估算带电粒子的能量损失率
机译:硅前集成芯片封装板DDR4-2133存储通道模拟与硅测量之间通过活动信号探测的快速关联-案例研究
机译:同步辐射和SWIFT离子冲击产生的慢速高电荷离子的回旋能测量
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:正和负2-15 GeV / c介子,钾和质子的锗和硅薄晶体中的随机和沟道能量损失