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机译:Si(111)上外延过渡金属单硅化物薄膜的应变稳定性和磁性的厚度依赖性
Fakultaet fuer Physik and Center for Nanointegration (CeNIDE), Universitaet Duisburg-Essen, 47048 Duisburg, Germany;
Fakultaet fuer Physik and Center for Nanointegration (CeNIDE), Universitaet Duisburg-Essen, 47048 Duisburg, Germany;
density functional theory, local density approximation, gradient and other corrections; electron density of states and band structure of crystalline solids; surface states, band structure, electron density of states; magnetic properties of thin films, surfaces, and interfaces;
机译:Y稳定ZrO _2(111)上生长的外延In_2O_3薄膜的应变厚度,带隙和传输性质
机译:外延Ni-Mn-Sn超薄膜中马氏体相变,磁性和磁阻的厚度依赖性
机译:脉冲金属有机化学气相沉积在(111)Ir / TiO_2 / SiO_2 / Si和(111)Pt / TiO_2 / SiO_2 / Si衬底上制备的Pb(Zr,Ti)O_3薄膜的电学性质对膜厚的依赖性
机译:第32章Fe_3O_4(111)薄膜在Pt(111)和Ru(0001)中的结构:外延应变在氧化铁/金属单晶界面中的作用
机译:过渡金属硫属化物薄膜磁性研究
机译:应变诱导缺氧的Fe氧化物外延薄膜中金属-绝缘体转变温度的显着增加
机译:应变与厚度对外延Filh薄膜过渡温度的影响
机译:外延稀土 - 过渡金属薄膜的结构和磁性