机译:在Ar等离子体处理的SiO_2上通过远程等离子体原子层沉积沉积的Ru膜的性质
Division of Materials Science and Engineering, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea;
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remote plasma atomic layer deposition; ruthenium films; TEM;
机译:Cu和SiO_2之间原子层沉积沉积Ru-AlO薄膜的界面粘合能:Ru-AlO薄膜组成的影响
机译:氨基硅烷和O_2 / Ar等离子体在50℃下SiO_2薄膜等离子体增强原子层沉积过程中的化学反应
机译:低温下远程等离子体原子层沉积沉积的Al_2O_3薄膜的湿气阻隔性能
机译:用(Zr(OTBU)_4 + Ti(OTBU)_4)鸡尾酒源(Zr_SiO_2 / Si基材上的(Zr_xti_(1-x))O_2膜上的介电性能O_2膜沉积(Zr(OTBU)_4 + Ti(OTBU)_4)鸡尾酒源
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:利用远程等离子体原子层沉积系统沉积的HfO2薄膜对硅进行表面钝化
机译:使用等离子体增强的原子层沉积在低温下沉积HFO2薄膜的结构,光学和电性能