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机译:一种新颖的全局平面化技术,该技术使用散焦抗蚀剂图案和毯状条纹掩模(DRESS)进行图形化
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
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机译:呼出的一氧化氮和峰值呼气流动的使用表明,使用可持续滤纸和叶片覆盖素升上的新型面膜的透气性和抗微生物性能和髓质覆盖型氨基胞素 em>油:在Covid-19流行期间的面具短缺的附加选择