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机译:使用气体团簇离子源深度分析研究XPS对富勒烯薄膜的氧化
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK;
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK;
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK;
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK;
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK,Centre for Plastic Electronics, Department of Chemistry, Imperial College London, London, SW7 2AZ, UK;
SPECIFIC, Swansea University, Bay Campus, Swansea, Wales SA1 8EN, UK;
OPV; PCBM; Degradation; XPS; GCIS;
机译:溅射深度剖析无机的新视野,巨大气体簇源:氧化铌薄膜
机译:使用氩气簇来源的超ick膜的二次离子质谱深度分析:作为深度函数的分析区域对分析区域的火山口造成的影响
机译:用于顶栅共面薄膜晶体管的经等离子体处理的非晶InGaZnO薄膜的深度轮廓XPS分析
机译:多晶GaAs薄膜上热氧化物的生长和XPS深度分析
机译:分子束的应用:金属氧化物薄膜的生产和气相团簇的质谱研究。
机译:射频磁控溅射在不同N2 / Ar气体流量下生长的Zn3N2薄膜的XPS深度剖面分析
机译:使用气体聚类离子源深度分析,研究XPS的富勒烯薄膜氧化
机译:块状共聚物薄膜中NEXaFs表面偏析的深度剖析。