机译:平面应力分离的相位步进干涉光弹性数值分析
Department of Engineering Mechanics, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China;
stress separation; interferometric photoelasticity; phase stepping; isopachics; isochromatics; isoclinics;
机译:使用相位步进干涉光弹性的二维应力分离
机译:相位步进干涉光弹性法确定等渗参数的数值模拟
机译:利用光弹Ptychography直接法,以平面应力分离
机译:干涉相步进光弹性涂层应力分析中的斑点噪声建模
机译:多晶硅的近红外光弹性及其与面内残余应力的关系。
机译:使用光弹谱图技术进行平面应力分离的直接方法
机译:通过干涉相位步进实施光弹性涂层法进行全场应力分析中的斑点噪声降低
机译:分布线电荷引起的应力波传播的动态光弹性分析。第一部分。全面。第二部分。四分之一平面