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机译:脉冲磁控溅射CF4 sub> / O2 sub>气体对铝靶材产生的AlF3 sub>薄膜的光学和力学性能
Thin Film Technology Center/Department of Optics and Photonics National Central University Chungli Taiwan 320;
Thin Film Technology Center/Department of Optics and Photonics National Central University Chungli Taiwan 320;
Department of Electronic Engineering Optoelectronics Technology Research Center Minghsin University of Science and Technology Hsinchu 304 Taiwan;
Thin Film Technology Center/Department of Optics and Photonics National Central University Chungli Taiwan 320;
aluminium fluoride; pulse magnetron sputtering; optical property; transmittance spectrum; sputtering power;
机译:用CF4 / O-2气体对铝靶材进行脉冲磁控溅射制备的AlF3薄膜的光学和机械性能
机译:SnO2-x的结构,电学和光学性质:通过直流反应磁控溅射从Ar-O-2 / CF4混合物中的金属靶沉积的F层
机译:通过大功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射生长的含铜的类金刚石碳膜的光学性质:结构和组成效应
机译:使用VO2靶的DC磁控溅射VO2薄膜的晶体结构,表面形貌,表面形貌和光学性能
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:无定形SnO2:TA薄膜的电气和光学性质,由DC和RF磁控溅射制备:对反应气体类型的影响进行系统研究