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机译:z扫描技术在连续波方式下退火对Mn掺杂ZnO薄膜线性和非线性光学性质的影响
Natl Univ Sci & Technol MISIS Leninskii Pr 4 Moscow 119049 Russia|Natl Inst Technol Karnataka Dept Phys Mat Res Lab Surathkal 575025 Karnataka India;
Jain Univ Sch Engn & Technol Dept Phys Bangalore 562112 Karnataka India|Manipal Univ Manipal Inst Technol Dept Phys Nonlinear Opt Res Lab Manipal 576104 Karnataka India;
Manipal Univ Manipal Inst Technol Dept Phys Nonlinear Opt Res Lab Manipal 576104 Karnataka India;
Natl Inst Technol Karnataka Dept Phys Mat Res Lab Surathkal 575025 Karnataka India;
MZO thin films; RF magnetron sputtering; Z-scan; Annealing; NLO; Optical limiting;
机译:z扫描技术在连续波方式下退火对Mn掺杂ZnO薄膜线性和非线性光学性质的影响
机译:电子束辐照对连续激光条件下光电器件应用的Al掺杂ZnO薄膜非线性光学性能的影响
机译:电子束辐照对连续激光条件下光电器件应用的Al掺杂ZnO薄膜非线性光学性能的影响
机译:延迟灌注退火对富含型Mn掺杂ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:使用Z扫描技术测量石墨烯薄膜的非线性特性。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:Au-Ag-Al纳米合金:Au-Ag-Al纳米合金薄膜作为光子应用的先进材料:CW制度下的XPS分析,线性和非线性光学性能(水晶研究和技术6/2020)