机译:磁控溅射沉积制备大面积柔性单片ITO / WO3 / Nb2O5 / NiVO chi / ITO电致变色器件
Feng Chia Univ Dept Photon Taichung 40724 Taiwan;
Feng Chia Univ Dept Mat Sci & Engn Taichung 40724 Taiwan;
Large area; Flexible; Monolithic; Electrochromic devices; Sputter deposition;
机译:磁控溅射沉积制备大面积柔性单片ITO / WO3 / Nb2O5 / NiVO chi / ITO电致变色器件
机译:磁控溅射制备的NiOx的性质及其对全膜ITO / NiOx / LiTaO3 / WO3 / ITO电致变色器件的影响
机译:在电致变色器件的柔性PET / ITO基板上进行a-WO3-z的反应溅射沉积
机译:电致变色窗的光学表征和电化学行为使用磁控溅射沉积氧化钨氧化物和(1-x)WO3XTIO2薄膜
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:反应磁控溅射制备的电致变色铟锡锌氧化物薄膜
机译:水对CeO2-TiO2,WO3和Nb2O5:Mo溶胶-凝胶层及其制备的器件的电致变色性能的影响