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机译:低温退火对用于光伏应用的RF溅射生长的ZnO薄膜的结构,光学,电学和形态学特性的影响
Mohanlal Sukhadia Univ Dept Phys Udaipur 313001 India;
Univ Rajasthan Ctr Nonconvent Energy Resources Jaipur 302004 Rajasthan India;
Deenbandhu Chhotu Ram Univ Sci & Technol Ctr Excellence Energy & Environm Studies Murthal 131039 Sonepat India|Iowa State Univ Sci & Technol Microelect Res Ctr Ames IA 50011 USA;
ZnO thin films; RF sputtering; Thermal annealing; Physical properties;
机译:低温退火对用于光伏应用的RF溅射生长的ZnO薄膜的结构,光学,电学和形态学特性的影响
机译:低温缓冲,射频功率和退火对射频磁控溅射生长的ZnO / Al_2O_3(0001)薄膜的结构和光学性能的影响
机译:衬底温度对直流磁控溅射Al和Ga共掺杂ZnO薄膜结构,形貌,电学和光学性质的影响
机译:后退火对射频磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:光谱椭偏仪作为薄膜中光学,电学和结构特性的多功能,非接触式探针:在光伏中的应用
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)