机译:材料去除程序对高精度光学表面离子束图形化的影响
National University of Defense Technology, College of Mechatronics and Automation, Changsha 410073, China, Hu'nan Key Laboratory of Ultra-Precision Machining Technology, Changsha 410073, China;
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ion beam figuring; material removal method; mid-to-high spatial frequency errors;
机译:确定性离子束成像光学表面过程中去除函数的数学建模和应用。第2部分:申请
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