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机译:离子束辅助沉积法在硅晶片上沉积的氮化硼薄膜上的晶格相变
Faculty of Engineering and HRC, Kansai University, Suita, Osaka 564-8680, Japan;
BN; phase-conversion; thin film; IBAD;
机译:离子束辅助沉积法沉积立方氮化硼薄膜的几种应力消除方法的比较和组合
机译:离子束辅助沉积法在沉积在硅上的氮化钛膜上的成分和电阻率与离子束电流的关系
机译:结晶立方氮化硼薄膜的热丝辅助电子束沉积
机译:离子束辅助脉冲Nd:YAG激光沉积制备立方氮化硼薄膜
机译:硅(100)晶片上氮化硼薄膜的表征。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过射频等离子体辅助化学气相沉积法在晶体硅上生长的高取向六方氮化硼薄膜的微观结构
机译:离子辅助脉冲激光沉积法制备立方氮化硼薄膜的成核与生长