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机译:沉积在自支撑铝箔上的LiF薄膜的阻挡力,用于快速质子
Division de Physique, CRNA, 02 Bd. Frantz Fanon, B.P. 399 Alger-gare, Algiers, Algeria;
Universite des Sciences et de la Technologie H. Boumediene (USTHB), Faculte de Physique, B.P. 32 El-Alia, 16111 Bab-Ezzouar, Algiers, Algeria;
Universite des Sciences et de la Technologie H. Boumediene (USTHB), Faculte de Physique, B.P. 32 El-Alia, 16111 Bab-Ezzouar, Algiers, Algeria;
Vacuum deposition; LiF compound; RBS and NRA analysis; Stopping powers; Bragg-Kleeman's additivity rule;
机译:用于0.3-2.7 MeV质子和α粒子的Formvar薄箔的停止功率和能量损耗散乱
机译:GaAs对快速质子的阻止能力:介电函数和光学数据模型的计算
机译:质子快速撞击非晶碳靶的电子发射与停止功率相关性的实验研究和蒙特卡洛模拟
机译:从0.45到3.0 mev的质子停止HVAR的动力
机译:入射在薄的自支撑箔上的低Z离子的平衡电荷态分布。
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:停止沉积在自支撑铝箔上的Lif薄膜的力量,用于Swift质子