机译:ICP-CVD法合成纳米晶氮氧化硅薄膜的结构和相组成研究
Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry SB RAS, 3, Acad. Lavrentjev Pr., Novosibirsk 630090, Russian Federation;
XRD using synchrotron radiation; thin film structure; silicon oxynitride;
机译:催化化学气相沉积法在100℃以下合成纳米晶硅薄膜的研究
机译:PECVD合成太阳能电池用纳米晶硅薄膜的光谱和形貌研究
机译:勘误至:PECVD合成的太阳能电池纳米晶硅薄膜的光谱和形态研究
机译:双离子注入硅合成氧氮化硅层的结构和电学特性及其退火行为的研究
机译:混合相氢化无定形/纳米晶体硅薄膜的电子传输
机译:氢和氮在生物活性非晶态氮氧化硅薄膜表面化学结构中的作用
机译:椭圆偏振光谱法研究掺Er纳米晶硅薄膜的层结构和杂质含量
机译:等离子体模量,等温应力和等离子体沉积氮氧化硅薄膜的温度依赖性