机译:随着等离子体通量和密度的增加对碳化学侵蚀的研究
机译:碳在ITER相关等离子体通量下的化学腐蚀:线性等离子体发生器Pilot-PSI的结果
机译:托卡马克中作为等离子体材料的碳和掺硼碳中化学腐蚀机理的密度泛函研究
机译:氢和氘低压等离子体中碳材料的化学腐蚀研究
机译:高密度碳氟化合物等离子体中Si和SiO / sub 2 /的离子通量组成和蚀刻速率
机译:碳纳米管支柱阵列场发射极几何结构对增加电流密度的实证研究。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:CH光谱用于高密度低温氢等离子体中的碳化学侵蚀分析
机译:原位光谱法测量TFIs-再沉积碳材料在pIsCEs-a中高通量等离子体轰击下的侵蚀行为。