机译:双层钨涂层对氢同位素通过F82H等离子体驱动和气体驱动的影响
School of Materials Science and Engineering, Hefei University of Technology, Hefei 230009, China,The Graduate University for Advanced Studies, 322-6 Oroshi, Toki 509-5292, Gifu, Japan;
The Graduate University for Advanced Studies, 322-6 Oroshi, Toki 509-5292, Gifu, Japan,National Institute for Fusion Science, 322-6 Oroshi, Toki 509-5292, Gifu, Japan;
first wall; tungsten coatings; F82H; plasma-driven permeation; gas-driven permeation;
机译:钨涂层还原活化铁素体钢F82H的氢同位素等离子体驱动渗透
机译:通过F82H钢涂覆真空等离子体喷涂钨的氢气驱动渗透
机译:含或不含含CrPO_4的Cr_2O_3-SiO_2陶瓷涂层的F82H钢中氢同位素渗透的研究(桩外试验)
机译:CR_2O_3-SiO_2陶瓷涂层包括CRPO_4的陶瓷涂层,包括CRPO_4的氢异形渗透的研究(桩型试验)
机译:调查与融合有关的等离子体物质相互作用:分析重离子损伤钨中的氢同位素保留。
机译:氘同位素对铁的渗透和门控的影响大鼠肺泡上皮中的质子通道
机译:氢同位素通过钨涂层减小活化铁素体钢F82H的渗透性渗透