着々と進むEUV露光技術開発アルファ装置による解像結果が登場: 32nm向けの液浸ArF開発も活発化

摘要

EUV（extreme ultraviolet）露光技術の開発が実用化に向けて大きく前進し始めた。オランダASM Lithography社（ASML）のプロセス開発向けEUV露光装置「Alpha Demo Tool」による最初の解像結果が，予想よりも良好だったためである。Alpha Demo Toolは，量産プロセスで使うフルフィールドの露光が可能であるため，EUV露光技術の実用性を判断する上で重要な意味を持っていた。ただし，今回の結果によって，すぐにEUV露光技術の実用化時期が前倒しになると考える技術者は少ない。装置以外にもレジスト材料やマスクなど多くの課題が残っているためである。