理論限界に近づく画素ピッチ縮小の理論と技術を詳説

摘要

サ一モグラフィ一などに使われる遠赤外線イメ一ジセンサ一（以下、赤外線イメ一ジセンサ—)の性能やコスト、性能限界を決める要素について解説する。重要な要素である画素ピッチの縮小のトレンドやそれを律速する要因、さらに縮小を継続していくために必要な技術について触れる。画素ピッチは限界に近づきつつあるが、いっそうの縮小余地がある。