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机译:自旋哈密顿参数分析得出的Cu 2 + sup>修饰金属氧化物的缺陷结构和缺陷配合物的形成
ferroelectrics; defect structure; copper doping; oxygen vacancy; defect dipole;
机译:自旋哈密顿参数分析得出的Cu2 +修饰金属氧化物的缺陷结构和缺陷配合物的形成
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机译:Cr3 +掺杂水铝矿型氟化物晶体LiSrGaF6,LiSrAlF6和LiCaAlF6的光带位置,自旋哈密顿参数和缺陷结构的研究
机译:表面硅层的延伸2D缺陷和带电点在热氧化过程中缺损Si-SiO_2结构的二氧化硅层中的产生过程
机译:在二氧化f和基于二氧化硅的金属氧化物-硅结构中,与偏置温度不稳定性和应力引起的泄漏电流有关的缺陷的磁共振观察。
机译:X射线光谱学和反应器参数对含缺陷的氧化铟氢氧化物纳米棒光催化二氧化碳加氢反应的电子研究
机译:自旋哈密顿参数分析得出的Cu2 +修饰金属氧化物的缺陷结构和缺陷配合物的形成
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