机译:1200 V,200 A 4H-SiC功率DMOSFET的高温性能
Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
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Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
U.S. Army Research Laboratory, 2800 Powder Mill Rd, Adelphi, MD, USA;
U.S. Army Research Laboratory, 2800 Powder Mill Rd, Adelphi, MD, USA;
Cree, Inc., 4600 Silicon Dr., Durham, NC, USA;
power DMOSFET; high temperature; MOS channel mobility; inversion layer electron mobility; interface traps;
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