机译:射频溅射法制备非晶Ga-Sn-Zn-0半导体薄膜
Green Energy & Eco-Technology System Center, ITRI South Campus, Industrial Technology Research Institute, Tainan City, Taiwan;
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GTZO films; Sputtering; Deposition; Semiconductors;
机译:射频溅射法制备沉积在PT / Tb诱导层上的高(100)取向PST薄膜
机译:化学计量无定形TeO2薄膜的Rf溅射生长
机译:基体对射频溅射制备的嵌入玻璃薄膜中的半导体纳米晶体三阶光学非线性的影响
机译:射频溅射沉积氧化非晶CdS薄膜的折射率特性
机译:自旋电子学用非晶态金属氧化物磁性薄膜和纳米复合材料的制备和评价。
机译:通过门控范德堡方法在有机半导体薄膜中的电荷载流子迁移率
机译:辉光放电分解方法制备与氢化非晶硼薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。 1979年1月1日的第一季度报告 - 1979年3月31日
机译:辉光放电分解法制备氢化非晶硼薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日