机译:使用模型喷涂实验确定溶液前体等离子体喷涂过程中的涂层沉积机理
Department of Metallurgy and Materials Engineering, Institute of Materials Science, University of Connecticut, Storrs, CT 06269-3136, USA;
Deposition mechanisms; Solution-precursor; Plasma-spray; Solution-precursor plasma-spray; Thermal barrier coatings;
机译:工艺参数对等离子喷涂中沉积足迹的影响
机译:低温HVOF喷涂Ti-Ni涂层的沉积机理和氧化行为
机译:溶液前驱体等离子喷涂工艺中热障涂层的沉积机理
机译:SYNCHROTRON X射线衍射对电子束物理气相沉积和等离子喷涂物理气相沉积热障涂层性能的比较
机译:溶液前体等离子体喷涂过程中氧化钇稳定的氧化锆形成的诊断和建模。
机译:等离子体喷雾与电化学沉积:朝向3D印刷钛支架上的羟基磷灰石涂层更好的成骨作用
机译:变压器盒的材料应用:具有等离子喷涂工艺的Al-Ta涂膜电磁屏蔽特性的研究
机译:用等离子喷涂工艺评估镍 - 铝涂层。