机译:离子切割形成氮化铝硅及其自热效应的理论研究
Research Center of Functional Semiconductor Film Engineering and Technology, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 865 Changning Road, 200050 Shanghai, China;
Silicon-on-insulator; AlN; Plasma immersion ion implantation; Wafer bonding; Electronic materials; Semiconductors;
机译:氮化铝硅衬底上制造的小型MOSFET自热效应的数值研究
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机译:分子构象对二维小分子空穴空穴材料中电子和电荷运输特性的探测效果:理论研究
机译:表面化学对ZnWO4纳米晶形貌转变的影响:实验与理论计算
机译:研究自加热和宏观内置极化对III-V氮化物器件性能的影响。
机译:甲烷吸附在氮化硼和碳纳米管上的理论研究
机译:应变局部化的现场和理论研究:矿物学,剪切加热和晶粒尺寸演变对地球变形的影响