机译:浸笔式纳米光刻技术制备的铁电BiFeO_3纳米点的电阻开关特性
Department of Chemical Engineering, Stanford University, 381 North-South Mall, Stanford, CA 94305, United States;
Department of Applied Physics, College of Applied Science, Kyung Hee University, 1732 Deogyeong-daero, Giheung-Gu, Yongin-City 446-701, Republic of Korea;
BiFeO_3 nanodot; DPN; PFM; CAFM; Resistive switching;
机译:由浸渍笔纳米光刻技术形成的Nio纳米点和Ai纳米线组成的纳米级电阻随机存取存储器
机译:在Nb掺杂的SrTiO_3和高度有序的热解石墨衬底上通过浸涂式光刻技术制备的BiFeO_3纳米点
机译:BiFeO_3纳米点和薄膜的局部铁电极化转换特性取决于铁电极化纳米位的直径
机译:基于肖特基般的Bifeo_3接口的铁电偏振逆转的电阻开关存储器
机译:使用浸渍笔纳米光刻技术在表面上合理地制造纳米结构。
机译:溶胶-凝胶法制备的云母基板上HfO2薄膜的电阻转换特性
机译:溶胶 - 凝胶加工制备的云母基材上HFO2薄膜的电阻切换特性