机译:通过化学气相沉积法在氢氧化镉氧化膜上通过无氨热取代反应制备硒化镉膜
Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del IPN, Unidad Queretaro, Libramiento Norponiente #2000, CP 76230 Queretaro, Qro., Mexico;
Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del IPN, Unidad Queretaro, Libramiento Norponiente #2000, CP 76230 Queretaro, Qro., Mexico;
Depto. de Fisica, Universidad de Sonora, Apdo. Postal 142, Hermosillo, Sonora 83190, Mexico;
Centro de Investigacion en Fisica, Universidad de Sonora, Apdo. Postal 5-88, Hermosillo, Sonora 83190, Mexico;
Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del IPN, Unidad Queretaro, Libramiento Norponiente #2000, CP 76230 Queretaro, Qro., Mexico;
Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del IPN, Unidad Queretaro, Libramiento Norponiente #2000, CP 76230 Queretaro, Qro., Mexico;
Chemical vapor deposition; Semiconductors; Crystal structure; Electron microscopy;
机译:无氨化学浴法沉积微晶硒化镉薄膜
机译:化学沉积的无氨氢氧化镉薄膜
机译:硒化镉,硫化镉和亚硫代铵薄膜与新型纳米结构的室温化学浴沉积
机译:化学浴沉积技术沉积硫化镉和硒化镉薄膜
机译:基于氧化镉的透明导体的金属有机化学气相沉积:前体设计,膜生长和膜表征。
机译:激光化学气相沉积法合成氧化钴薄膜的分形结构
机译:通过sILaR沉积工艺合成氢氧化镉转化为氧化镉薄膜:不同沉积循环的作用