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机译:促进剂和稳定剂对化学镀Ni-P沉积物的形成和特性的影响
Madras Ctr, Natl Met Lab, Madras 600113, Tamil Nadu, India;
Univ Madras, Dept Nucl Phys, Div Sci Mat, Madras 600025, Tamil Nadu, India;
electroless plating; electroless Ni-P deposits; accelerators; stabilizers; structure; phase transformation behaviour; NICKEL-PLATING PROCESS; THIOUREA; MECHANISM; CRYSTALLIZATION; FILMS; BEHAVIOR; KINETICS; ALLOY; BATHS;
机译:热处理后Ni-P和Ni-P-Re化学镀层的显微组织特征和相变
机译:镁AZ91D合金上的保护涂层-化学镍(EN)镀液稳定剂对Ni-P镀层腐蚀行为的影响
机译:PTFE复合材料化学沉积Ni-P的减摩磨损性能
机译:纳米晶体形成对化学镀Ni-P沉积性能的影响
机译:重烃蒸气中碳质沉积物的形成和特征。
机译:机械合金化过程中通过起始粒子的化学镀Ni-P形成AlNiCo纳米准晶相
机译:金刚石磨料对化学沉积的Ni-P涂层的合成与形态学
机译:用于录像带录制的化学镀带。化学沉积Co-p胶带的制备及性能