机译:硅基磁控溅射钛薄膜的形貌研究
Department of Metallurgical and Materials Engineering & Centre of Nanotechnology, Indian Institute of Technology Roorkee, IIT Roorkee Campus, Roorkee 247667, Uttarakhand, India;
ti thin films; magnetron sputtering; microstructural characterization; grain growth;
机译:沉积温度对磁控溅射Ti70-A130薄膜在钢基底上的形貌,结构,表面化学和力学性能的影响
机译:射频磁控溅射在Si衬底上生长的Pb_xla_(1-x)ti_(1-x / 4)o_3薄膜的拉曼光谱研究
机译:XPS研究在Si和Si_3N_4衬底上磁控溅射CeO_2薄膜中CeO_2与硅的相互作用
机译:溅射电流对(Ti_(1-x)Cr_x)N薄膜的结构和形貌的影响,反应性不平衡磁控掺杂沉积
机译:通过溅射沉积在硅(001)衬底上沉积的金薄膜的表面形态。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性