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机译:磁场对四个靶场不平衡磁控溅射钛膜性能的影响
Key Lab. for Advanced Technologies of Materials, Ministry of Education, Southwest Jiaotong University, 610031 Chengdu, China;
magnetic filed arrangement; unbalance magnetron sputtering; ion current; ion/atom ratio; residual stress;
机译:反应性近场不平衡磁控溅射沉积氮化钛铝薄膜的结构和力学性能
机译:反应性近场不平衡磁控溅射沉积氮化钛铝薄膜的力学和摩擦学性能
机译:非平衡磁控溅射法合成二氧化钛薄膜的微观结构和性能
机译:磁场布置对氧化钛膜特性的影响,四个靶闭合磁阻率磁控溅射
机译:研究磁控溅射生产的氧化锌基薄膜的结构,电,光和磁性能。
机译:射频磁控溅射制备低温等离子体驱动纳米二氧化钛薄膜净化汽车尾气
机译:离子轰击和衬底取向对不平衡磁控溅射沉积氮化钛膜结构和性能的影响