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机译:浅沟槽隔离过程中的特征轮廓演变Etchin氯基等离子体。 Ⅱ。反应堆和特征尺度模型的耦合
Department of Chemical and Biomolecular Engineering, UCLA, Los Angeles, California 90095;
机译:氯基等离子体浅沟槽隔离蚀刻过程中的特征轮廓演变。一,特征尺度建模
机译:在基于氯的等离子体中进行浅沟槽隔离蚀刻期间的特征轮廓演变。三,加氧的作用
机译:高密度氯基等离子体中多晶硅栅刻蚀的原子尺度细胞模型和轮廓模拟:钝化层形成对特征轮廓演变的影响
机译:虚拟特征放置,用于浅沟槽隔离工艺中的化学机械抛光均匀性
机译:等离子体材料加工的纳米尺度特征轮廓建模
机译:从胎儿心率率依赖于孕妇依赖于人类劳动模型的健康代谢和心血管动态的距离预测酸血症和心血管失代偿的演变
机译:高密度氯基等离子体中多晶硅栅刻蚀的原子尺度细胞模型和轮廓模拟:钝化层形成对特征轮廓演变的影响