机译:活性晶格受限的Ru_2氮化物的光晶体直接表征
Department of Chemistry, Texas A&M University, College Station, Texas 77843, United States;
Department of Chemistry, Texas A&M University, College Station, Texas 77843, United States;
ChemMatCARS, the University of Chicago, Argonne, Illinois 60439, United States;
Department of Chemistry, Texas A&M University, College Station, Texas 77843, United States;
机译:脉冲直流无功磁控溅射法制备氮化铝涂层的生长与表征
机译:反应溅射钼硅氮化硅合金金属栅电极的物理和光电特性
机译:反应磁控溅射氮化碳膜的XPS,XANES和ToF-SIMS表征
机译:通过极低压力反应等离子体喷涂沉积的氮化钛氮化钛的特征和性质
机译:沉积 和 氮化铟 的 表征和 氮化铝 薄膜的 反应溅射
机译:微波氮化锂Li4NH的快速合成表征和反应性
机译:NIR光催化:等离子体增强的反应性氧物种对直接近红外驱动光催化的低功函数钨氮化物(小45/2020)
机译:氮化铝/氧化铝反应溅射增透膜的表征