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机译:射频制备TiO_(2)-WO_(3)薄膜的结构性能溅镀
Faculty of Materials Science and Ceramics, AGH -University of Science and Technology, al. Mickiewicza 30, 30-059 Krakow, Poland;
机译:射频合成Zn2SnO4薄膜的结构,形貌和光学性质的比较研究。使用Zn和Sn金属靶以及ZnO-SnO2陶瓷靶进行溅射
机译:射频制备纳米AlN:Er薄膜的结构,化学和光学表征磁控溅射
机译:直流磁控溅射制备纳米晶WO_3和WO_(3-x)薄膜的光学性质
机译:通过离子辅助电子束蒸发制备的TiO_(2)-wO_(3)和TiO_(2)-mO_(3)的薄膜气体传感性能
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:纳米晶体的结构,化学和光学表征:R.F制备的薄膜薄膜。磁控溅射