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机译:Mn〜(2+)掺杂FeS_2薄膜在ITO导电玻璃基板上的单步电化学沉积:物理,电化学和电催化性能
Muthurangam Govt Arts Coll, Dept Chem, Mat Chem Lab, Vellore 632002, Tamil Nadu, India;
Muthurangam Govt Arts Coll, Dept Chem, Mat Chem Lab, Vellore 632002, Tamil Nadu, India;
Univ Madras, Dept Polymer Sci, Guindy Campus, Chennai 600025, Tamil Nadu, India;
Deemed Univ, Sathyabama Inst Sci & Technol, Ctr Nanosci & Nanotechnol, Ctr Excellence Energy Res, Chennai 600119, Tamil Nadu, India;
机译:锰浓度对电沉积技术沉积在ITO(玻璃)衬底上的Mn〜(2+)掺杂ZnS薄膜物理和电化学性能的影响
机译:Ni〜(2 +)电化学沉积的光电化学应用 - 掺杂FES_2薄膜
机译:通过单步电化学沉积工艺制造Gd3 +掺杂薄膜的物理化学和电化学性能
机译:Cu / Sn合金纳米粒子对电催化硝酸盐减少硼掺杂金刚石膜的电化学沉积研究
机译:导电微晶和纳米晶金刚石薄膜以及氢化玻璃碳电极的生长,表征和电化学性能
机译:硫化时间对电化学沉积铜锌锡硫化薄膜性能的影响
机译:掺杂Bi2Te3热电薄膜的电化学沉积和性能