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机译:弹性应变和扩散限制聚集对溅射氮化物薄膜形态不稳定性的影响
School of Engineering Science and Technology, Centre for Nanotechnology, University of Hyderabad, Hyderabad 500046, India,Chemistry and Physics of Materials Unit,Jawaharlal Nehru Center for Advanced Scientific Research, Jak-kur, Bangalore 560064, India;
School of Physics, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India and Centre for Nanotechnology,University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India;
Centre for Nanotechnology, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India and School of Engineering Sciences and Technology, University of Hyderabad, Hyderabad 500 046, India;
机译:溅射气体的压力和氧含量对通过反应性溅射锌沉积的氮氧化锌薄膜的结构和性能的影响
机译:通过DC反应磁控溅射物理气相沉积在不锈钢线上的连续模式下,钛和氮化钛薄膜在不锈钢线上的连续方式:化学,形态学和结构研究
机译:DC磁控溅射沉积的氮化钛薄膜的结构,形态学和机械硬度特性:基材温度的影响
机译:反应高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在熔融石英上生长的钽氮化物薄膜的形态学
机译:探索薄膜纳米压痕过程中基底效应和弹性应变特性的起源。
机译:通过共溅射和溅射气体聚集获得的CO-Cu薄膜的磁传输性能
机译:直流反应磁控溅射合成氮化钛薄膜的表面形貌
机译:弹性基体上由于应变不匹配导致的薄塑膜变形不稳定性。