机译:高克努森数物理气相沉积:预测沉积速率和均匀性
Fellow Tata Research Development and Design Centre, India, 54/B, Hadapsar Industrial Estate, Pune, 411013, India;
physical vapor deposition; free molecular flow; radiation-molecular flow analogy; finite element analysis;
机译:在二氧化硅上喹ac啶酮薄膜生长过程中,来自各种Knudsen细胞的物理气相沉积过程的异质性
机译:改进的Knudsen-Cell蒸气源用于真空沉积
机译:使用电离物理气相沉积的晶圆上可调沉积速率
机译:高克努森数物理气相沉积:预测沉积速率和均匀性
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:物理气相沉积过程的特质各种克努森细胞制备的喹Quin啶酮薄膜在硅上生长二氧化物
机译:通过物理气相沉积和化学气相沉积形成的金属点触点:显微镜研究和点接触光谱
机译:物理气相沉积法制备大型非平面和平面聚酰亚胺基板上的均匀铝沉积物