机译:直流磁控溅射制备氧化银薄膜的物理性能:生长过程中氧分压的影响
Plasma Physics Research Center, Research and Science Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran;
Plasma Physics Research Center, Research and Science Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran;
Plasma Physics Research Center, Research and Science Branch, Islamic Azad University, Tehran, Iran;
silver oxide; XRD; AFM; sputtering;
机译:直流反应磁控溅射在不同氧分压下制备的氧化铜薄膜的物理性能
机译:氧分压对射频磁控溅射沉积纳米氧化银薄膜物理性能的影响
机译:直流反应磁控溅射在不同氧压下制备的铟锡氧化物薄膜的物理性能
机译:直流反应磁控溅射在不同氧分压下制备的氧化铜薄膜的物理性能
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:反应磁控溅射制备二元氧化铜薄膜的相变和物理性质
机译:用射频反应磁控溅射用不同氧偏压制备锶氧化铜膜的性质