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Patent Issued for Semiconductor Device with a Plurality of Mark through Substrate Vias

机译:通过衬底过孔为具有多个标记的半导体器件颁发了专利

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摘要

2013 MAR 20 (VerticalNews) -- By a News Reporter-Staff News Editor at Journal of Engineering --nAdvanced Semiconductor Engineering, Inc (Kaohsiung, TW) has been issued patent number 8390129,naccording to news reporting originating out of Alexandria, Virginia, by VerticalNews editors.
机译:2013年3月20日(垂直新闻)-由《工程杂志》的新闻记者兼工作人员担任新闻编辑-根据位于弗吉尼亚州亚历山大市的新闻报道,nAdvanced Semiconductor Engineering,Inc(TW.Kaohsiung)已获专利号8390129。由VerticalNews编辑。

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