机译:屏障层上超临界流体沉积对粘合促进的铜薄膜的定量界面能测量
Department of Chemical Engineering, University of Massachusetts Amherst, Amherst, MA 01003;
rnSchool of Engineering and Applied Science, Harvard University, Cambridge, MA 02138;
rnSchool of Engineering and Applied Science, Harvard University, Cambridge, MA 02138;
rnDepartment of Polymer Science and Engineering, University of Massachusetts Amherst, Amherst, MA 01003;
fracture mechanics; adhesion; supercritical fluid deposition;
机译:磁控溅射和超临界流体沉积技术沉积铜薄膜的比较研究
机译:Cu和SiO_2之间原子层沉积沉积Ru-AlO薄膜的界面粘合能:Ru-AlO薄膜组成的影响
机译:层逐层沉积技术的影响和层状双氢氧化物(LDH)的掺入对多层薄膜的形态和气体阻隔性能
机译:使用分子层沉积的铜扩散阻挡层的有机薄膜的制备
机译:辉光放电对激光汽化沉积薄膜的影响以及辉光放电中铜-氧反应的活化能测量。
机译:基于扩散受限聚集的层状铜薄膜的电化学沉积
机译:磁控溅射和超临界流体沉积技术沉积铜薄膜的比较研究
机译:离子束作为沉积和原位表征薄膜和薄膜分层结构的手段