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机译:聚合前驱体法在RuO2 sub> / SiO2 sub> / Si衬底上定向生长Bi3.25 sub> La0.75 sub> Ti3 sub> O12 sub>薄膜:结构,微结构和电性能
Chemistry Institute Paulista State University (UNESP) C.P. 355 14801-970 Araraquara SP Brazil;
Materials Science and Technology Paulista State University (UNESP) C.P. 473 17033-36 Bauru SP Brazil;
Chemistry Department Federal University of São Carlos (UFSCar) C.P. 676 13560-905 São Carlos SP Brazil;
Thin films; Atomic force microscopy; Dielectric properties; Fatigue;
机译:通过聚合物前驱体方法在RuO {sub} 2 / SiO {sub} 2 / Si衬底上定向生长Bi {sub} 3.25La {sub} 0.75Ti {sub} 3O {sub} 12薄膜:结构,微结构和电性能
机译:聚合前驱体法在Pt / Ti / SiO2 / Si衬底上沉积CaBi2Nb2O9薄膜的合成及电学表征
机译:化学溶液沉积法在(100)和(001)取向SrLaAlO_4衬底上生长的LaNiO_3薄膜的结构和电学性质
机译:脉冲激光沉积沉积参数对陶瓷基板上沉积在陶瓷基板上的电荷平衡钡锶锶微结构演化和电性能的影响
机译:硅基衬底上有机薄膜的生长,结构和电学特性。
机译:Zr掺杂对原子层沉积ZnO薄膜光学电学和微结构性质的影响
机译:通过化学溶液沉积法在(100)和(001)定向的SrlaAlO4基材上生长的LaniO3薄膜的结构和电性能
机译:La(sub 0.67)sr(sub 0.33)mnO(sub 3)薄膜的基体和生长相关的微观结构和磁性