机译:以庚二酸锆为锆源的化学溶液沉积法生长Pb(Zr,Ti)O_3薄膜及其电性能
Max-Planck Institute of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle/Saale, Germany;
A1. crystal structure; A3. chemical solution deposition; B1. perovskites; B2. ferroelectric materials;
机译:化学溶液沉积法制备几种(Bi,La)_4Ti_3O_12 / Pb(Zr,Ti)O_3复合薄膜的电学性能比较
机译:化学溶液沉积制备(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr,Ti)O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)多层薄膜的制备和电学性能
机译:通过化学溶液沉积在SrRuO_3缓冲的镍和硅衬底上生长的Pb_(0.92)La_(0.08)Zr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜的电性能
机译:通过化学溶液沉积制备的Pb(Zr,Ti)O_3 / CoFe_2O_4 / Pb(Zr,Ti)O_3层薄膜的性质
机译:压电瘤应用Pb(Zr0.3Ti0.7)O3薄膜对缩放效应对缩放效应的影响
机译:通过脉冲激光沉积制备具有可调光学性能的超均匀Pb0.865La0.09(Zr0.65Ti0.35)O3薄膜
机译:特刊陶瓷集成。用化学溶液沉积法制备几种(Bi,LA)4Ti3O12 / Pb(Zr,Ti)O3复合薄膜电性能的比较研究。
机译:新型单固体源金属有机化学气相沉积法制备pbTiO {sub 3}和pb(Zr {sub x} Ti {sub 1 {minus} x})O {sub 3}薄膜