机译:反应溅射沉积氮化钽薄膜的电学和力学性能
Korea Univ, Dept Mat Sci & Engn, Seoul 136713, South Korea;
hardness; reactive sputtering; resistivity; roughness; TaN; BARRIER;
机译:反应性直流磁控溅射沉积氮化钽薄膜的微结构,化学和电学性能研究
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机译:通过脉冲反应性气体溅射沉积的氧氮化钽薄膜的光学,电学和机械性能
机译:射频反应溅射制备氧化钽薄膜的电学和光学性质
机译:溅射沉积的氮化物和氧化物超晶格薄膜的结构,力学性能和热性能
机译:射频磁控溅射沉积BiFeO3薄膜的结构和纳米力学性能
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