机译:标准Czochralski过程中硅熔体中的氧分布,通过传感器测量研究并与数值模拟进行比较
Silicon; Czochralski; Oxygen measurement; Transport modelling;
机译:Czochralski硅晶体生长过程中不同氩气流量下硅熔体中氧分布的数值模拟
机译:Czochralski硅晶体生长过程中隔热罩形状对熔体界面氧杂质分布影响的数值研究
机译:硅切克劳斯基结晶生长中熔体对流的测量和数值模拟比较
机译:Czochralski硅晶体生长过程中不同氩气流流速硅熔体氧气分布的数值模拟
机译:切克劳斯基硅中氧沉淀的模型。
机译:热熔挤出数值模拟中基于模型的熔体粘度的验证
机译:Czochralski技术生长磁性硅单晶过程中零高斯平面的位置对熔体界面氧浓度的影响
机译:经典Czochralski法和CaCRT中熔体对流流动的数值模拟。第2部分。自由和强迫对流联合的模拟