机译:在Si(111)衬底上进行等离子体预处理以生长ZnO薄膜
School of Advanced Materials Engineering and Research Center for Advanced Materials Development, Engineering College, Chonbuk National University, Chonju 561-756, Republic of Korea;
A1. Surface processes; A3. Metal-organic vapor phase deposition; B1. ZnO films;
机译:在Si(1 1 1)衬底上进行等离子体预处理以生长ZnO薄膜
机译:水热生长的ZnO缓冲层,用于在MgAl_2O_4(111)衬底上生长高度(4 wt%)掺杂Ga的ZnO外延薄膜
机译:等离子体辅助分子束外延在具有Cr化合物缓冲层的Si(111)衬底上生长ZnO薄膜
机译:通过等离子体辅助分子束外延在Si(111)衬底上的单晶ZnO膜的生长
机译:使用常规和五极外延生长工艺在氢(6)-碳化硅(0001)和硅(111)衬底上生长氮化镓和氮化铝镓薄膜。
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:MgO(111)衬底上ZnO薄膜的生长和性能