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机译:混合方法可模拟低掺杂FinFET中的随机掺杂物波动
IBM Semiconductor Research and Development Center">(1);
IBM Microelectronics Division">(2);
IBM Semiconductor Research and Development Center">(1);
IBM Microelectronics Division">(2);
IBM Microelectronics Division">(2);
IBM Microelectronics Division">(2);
IBM Semiconductor Research and Development Center">(1);
Random dopant fluctuation; FinFET; Threshold voltage variability; Monte Carlo;
机译:混合方法可模拟低掺杂FinFET中的随机掺杂物波动
机译:16-nm栅极HKMG体FinFET的上下随机掺杂物波动
机译:掺杂剂谱对散装FinFET随机掺杂波动和优化的影响
机译:基于迁移率和掺杂物数量波动的模型的比较分析,用于在存在随机陷阱和随机掺杂物的情况下估算45 nm沟道长度MOSFET器件中的阈值电压波动
机译:对纳米级三栅MOSFET中的随机掺杂剂波动效应进行建模。
机译:随机离散掺杂剂引起的具有固定顶鳍宽度的16nm栅极梯形体FinFET器件的电特性波动
机译:用金属层间半导体源/漏极接触结构对随机掺杂波动对N型接线FINFET的影响
机译:由量子效应引起的随机掺杂剂诱导阈值波动和低于100 nm mOsFET的降低:三维密度梯度模拟研究